XVL-5HG
Applikationen
- Direkte Maskenreparatur
- Mikro Materialbearbeitung <1µm
- Rapid Prototyping
- Wellenlängen sensitive Prozesse
- Stereo Lithographie
Eigenschaften
- Diodenlaser gepumpt
- Gedichtetes Gehäuse
- Steckbares Laserdiodenmodul
- Exzellentes Strahlprofil
- Hohe Impulsleistung
- Multipositions 5HG-Kristall
- Computerschnittstelle RS-232
- Thermo-elektrisches Wärmemanagement
| modell | XVL-5HG |
| wellenlänge | 213 nm |
| mittlere Leistung | 100 mW |
| Impulsdauer | < 7 ns |
| Energie pro Impuls | 10 µJ |
| Wiederholrate | 0.1-30 kHz |
| M² | < 1.6 |
Datenblatt
Letzte Änderung: 16.04.07